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簡(jiǎn)要描述：激光氣體分析儀，半導體激光器發(fā)射的激光譜寬小于0.0001nm，是紅外光源譜寬的1/106，遠小于紅外光源譜寬和被測氣體單吸收譜線(xiàn)寬度，其頻率調制掃描范圍也僅包含被測氣體單吸收譜線(xiàn)（半導體激光吸收光譜技術(shù)也因此被稱(chēng)為單線(xiàn)光譜技術(shù)），因此成功消除了背景氣體交叉干擾影響。
產(chǎn)品型號：HCL-2000型廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2022-07-22訪(fǎng) 問(wèn) 量：858產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,農業(yè),電子 |
激光氣體分析儀產(chǎn)品特點(diǎn)：
不受背景氣體交叉干擾
半導體激光器發(fā)射的激光譜寬小于0.0001nm，是紅外光源譜寬的1/106，遠小于紅外光源譜寬和被測氣體單吸收譜線(xiàn)寬度，其頻率調制掃描范圍也僅包含被測氣體單吸收譜線(xiàn)（半導體激光吸收光譜技術(shù)也因此被稱(chēng)為單線(xiàn)光譜技術(shù)），因此成功消除了背景氣體交叉干擾影響。
不受被測氣體環(huán)境參數變化干擾
被測氣體環(huán)境參數—溫度或壓力變化通常導致譜線(xiàn)強度和展寬發(fā)生變化，對溫度或壓力信號不加修正就會(huì )影響測量結果。而DLAS技術(shù)是對被測氣體單一吸收譜線(xiàn)進(jìn)行分析，因此可較容易地對溫度、壓力效應進(jìn)行修正。為此系統內置了溫度和壓力自動(dòng)修正功能，能根據實(shí)際測量得到的被測氣體溫度和壓力對氣體成分測量值進(jìn)行自動(dòng)修正，從而可實(shí)現精確的在線(xiàn)氣體分析。
激光氣體分析儀參數：
技術(shù)指標 | |
量程 | 0-100%VOL |
線(xiàn)性誤差 | ≤±1%F.S./半年 |
量程漂移 | ≤±1%F.S./半年 |
重復性 | ＜1% |
防爆等級 | ExdIICT5 Gb |
預熱時(shí)間 | ≤15min |
響應時(shí)間（T90） | ≤1s |
模擬量輸出 | 2路4～20mA電流（隔離、最大負載750Ω） |
繼電器輸出 | 3路輸出（繼電器規格：24V，1A） |
模擬量輸入 | 2路4～20mA電流（溫度、壓力補償） |
通訊接口 | RS485/RS232 |
電源 | 24VDC（18～36VDC） |
功耗 | ＜20W |
環(huán)境溫度 | -30～80℃ |
儲存溫度 | -40～80℃ |
吹掃氣體 | 0.3～0.8MPa工業(yè)氮氣或凈化儀表氣等 |
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